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第555章 EUV光刻机？震惊众人！（第3页）

2010年，ASmL向泡菜国三星研究机构运送了第一台twINScANNxE:3100预生产EUV系统，并在平安夜实现了“第一道光”。

该机器数值孔径为0。25，能曝出10纳米时代需要的图案，但光源功率较弱，最佳状态时只能输出10瓦。

2012年，英特尔、三星和台积电等主要客户同意在五年内为ASmL的EUV研发贡献资金并收购公司股份。

2013年，ASmL交付了第一台NxE:3300，台积电等客户与其共同开发。

2014年，光源功率提升到40瓦左右，后续继续优化以满足量产要求。

2016年，ASmL推出量产型EUV光刻机NxE3600b。

2017年，EUV光刻机实现大规模商用，逐渐成为半导体先进制程中最重要的生产工具。

2020年底，ASmL庆祝第100台EUV极紫外光光刻系统出货。

此时其EUV光刻机已广泛应用于5纳米等先进制程芯片制造。

可以说，ASmL对EUV光刻机的研发经历了很长时间，也遇到了很多的困难。

整个时间维度，更是横跨20年的时间。

所以当孙坚这样直白说出来，众人一时之间还没有接受。

他们没想到星海科技居然真的把EUV光刻机给研发出来了。

而且，这台光刻机的性能就已经实现了对目前世界先进水平的追赶。

只是和ASmL不一样的是，ASmL的5纳米性能的光刻机还没有正式制造出来。

而星海科技的这台光刻机却已经真实的摆在了众人的眼前，开始进行商用了。

“之所以我们的光刻机和ASmL的有些不一样，主要是我们这台光刻机的性能更加强悍。”

“不管是在光刻机制造成本，还是在制造芯片的成功率上，我们的这台光刻机肯定都要遥遥领先ASmL的光刻机。”

孙坚以为在场的众人不说话，是想要知道更多的信息，他就继续说了一些。

此时，陈敏和教授们更加震惊的说不出话了。

不过也有教授表达了自己的质疑：“孙总，可否让我们看一下贵公司的光刻机怎么运作的？”

“这样一来，对我们来说也更加有说服力不是？”

其他人听后，虽然没有说话，但是在心里深以为然。