“但是他的很多功能却是EUV光刻机都没有的,光刻机的架构也更加巧妙。”
这位教授说的话,其他几个人都非常清楚的听见了。
就在这个时候,这位教授好奇地看向孙坚:“孙总,这台光刻机的制程是多少?到底是不是EUV光刻机?”
听见这位教授询问的,其他人也一脸好奇地看向孙坚,想要从孙坚的口中听见结论。
陈敏没想到,眼前的几位教授都看不出来这台光刻机的来历。
要知道,眼前这几位教授,已经是国内顶尖的专家了。
他们虽然没有见过EUV光刻机,但是对于EUV光刻机还是知道一些情况的。
只是他们都没有办法搞清楚眼前这台光刻机的情况,现场也就只有孙坚可以解释一下这台光刻机的各项性能了。
孙坚见大家一脸期待地看向他,笑着介绍道:“这台光刻机就是我们星海科技最新研发的EUV光刻机。”
“这台光刻机的制程达到了5纳米的水平,已经赶上目前世界上最先进的EUV光刻机了。”
听见孙坚的话清楚的从耳边传出,众人还是有些不相信。
所以当孙坚说完这句话之后,在场的众人好几分钟没有说话。
他们一直在消化孙坚话中的内容,反复思考这个难以置信的信息。
而且孙坚说出来的时候没有思考和犹豫,表现的非常云淡风轻。
好像在孙坚的眼中,眼前的这台光刻机就像是一台非常普通、可有可无的普通机器一样。
这样一来,就让他们更加难以置信了。
要知道,ASmL研发EUV光刻机是一个历经多年、汇聚多方力量的过程。
20世纪80年代中期,EUV光刻技术研究起步。
1997年,ASmL聘请Josbenschop启动EUV计划。
1998年,ASmL与德国蔡司和牛津仪器公司成立了“EUcLIdES”欧洲工业研发联盟,共同推进EUV技术研发。
1999年,ASmL和EUcLIdES与阿美莉卡EUVLLc联手,加速技术开发。
直到2000年,Jos在SpIE上展示EUcLIdES计划的第一个结果。
2001年,ASmL分配少量资源构建EUV原型系统。
2006年,第一批EUV原型机被运往比利时的imec和纽约奥尔巴尼的SUNY,用于了解EUV技术及其在半导体制造中的应用。
2010年,ASmL向泡菜国三星研究机构运送了第一台twINScANNxE:3100预生产EUV系统,并在平安夜实现了“第一道光”。